分子束外延系统(MBE)
主要用途
分子束外延系统是用于超高真空条件下生长高质量晶体薄膜的设备。广泛应用于半导体、量子器件等领域，能够实现原子级精度的薄膜生长。
参数指标
真空度：≤10^-9Pa；源数量：≥8个；基底温度：室温-1000℃；生长监控：RHEED。
主要样品类型
适用于半导体薄膜制备，包括：III-V族半导体、量子阱、超晶格、二维材料等。
主要实验项目
外延薄膜生长、量子结构制备、异质结构生长、薄膜掺杂等。
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